一般金屬都具有較大的消光系數(shù)，當(dāng)光束由空氣入射到金屬表面時(shí)，進(jìn)入金屬內(nèi)的光振幅敏捷衰減，使得進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能相應(yīng)削減，而反射光能添加。消光系數(shù)越大，光振幅衰減越敏捷，進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能越少，反射率越高。人們總是挑選光系數(shù)較大，光學(xué)性質(zhì)較安穩(wěn)的那些金屬作為金屬膜資料。在紫外區(qū)常用的金屬薄資料是鋁，在可見光區(qū)常用鋁和銀，在紅外區(qū)常用金、銀和銅，此外，鉻和鉑也常作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等資料在空氣中很簡略氧化而下降性能，所以有必要用電介質(zhì)膜加以維護(hù)。常用的維護(hù)膜資料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。

金屬反射膜的長處是制備工藝簡略，作業(yè)的波長規(guī)模寬;缺陷是光損大，反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進(jìn)一步提高，能夠在膜的外側(cè)加鍍幾層必定厚度的電介質(zhì)層，組成金屬電介質(zhì)反射膜。需要指出的是，金屬電介質(zhì)射膜添加了某一波長(或許某一波區(qū))的反射率，卻破壞了金屬膜中性反射的特點(diǎn)。

全電介質(zhì)反射膜是建立在多光束干涉基礎(chǔ)上的。與增透膜相反，在光學(xué)表面上鍍一層折射率高于基體資料的薄膜，就能夠添加光學(xué)表面的反射率。最簡略的多層反射是由高、低折射率的二種資料替換蒸鍍而成的,每層膜的光學(xué)厚度為某一波長的四分一。在這種條件下，參與疊加的各界面上的反射光矢量，振蕩方向相同。合成振幅跟著薄膜層數(shù)的添加而添加。